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鄭州純凈水設備廠家：反滲透膜為什么要定期清洗方法/步驟1: 一、細菌污染 一般特征：脫鹽率可能降低、系統壓降明顯增加、系統產水量明顯降低 清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；0.1%NaOH和0.03%SDS，PH=11.5。 方法/步驟2: 二、硫酸鈣污染 一般特征：脫鹽率明顯降低、系統壓降稍有或適度增加、系統產水量稍有降低 清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；有時也可用PH小于10的NaOH水溶液清洗。 方法/步驟3: 三、有機物沉淀 一般特征：脫鹽率可能降低、系統壓降逐漸升高、系統產水量逐漸降低 清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C。 方法/步驟4: 四、氧化物/氫氧化物（鐵、鎳、銅）污染 一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統壓降明顯升高、系統產水量明顯降低 清洗方法：氨水調PH值4,2%的檸檬酸溶液，溫度40C，有時也可以用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。 方法/步驟5: 五、無機鹽沉淀物污染 一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統壓降增加、系統產水量稍降 清洗方法： 2%檸檬酸溶液，氨水調PH值4，溫度40C，也可用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。 方法/步驟6: 六、各種膠體（鐵、有機物及硅膠體）污染 一般特征： 脫鹽率稍有將低、系統壓降稍有上升、系統產水量逐漸減少。 清洗方法：硫酸調PH值10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40C；有時也可以用PH小于10的NaOH水溶液清洗。 注意事項 前置處理器要經常沖洗，確保反滲透進水水質達標。 反滲透膜元件根據出水水質情況確定清洗周期。 |
